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      等離子體監控
      等離子體是物質除固體、液體和氣體的第四種存在形式。在宇宙和自然界中,超過99%的物質以等離子體的形式存在,例如太陽日冕層、極光、閃電、霓虹燈等。等離子體這個概念最早由Langmuir于1928年提出,一般指電離度大于0.1%的氣體。其是由大量中性氣體原子分子、正離子和電子所組成的電漿,且正離子和電子濃度保持動態平衡且相等,因此在遠大于德拜長度的空間線度下,等離子體整體呈電中性。
      等離子體監控
      自然界和生活中的等離子體形態
      等離子體在晶圓制造過程中具有重要意義。晶圓制造中一般通過輝光放電的方式來產生低溫等離子體,即通過給電極施加射頻使其放電,產生的電子在電場中加速,通過與注入真空腔室的氣體分子不斷碰撞,剝離其核外電子使其電離,從而產生等離子體。許多半導體工藝流程都會用到等離子體,例如,等離子體刻蝕相比于濕法刻蝕擁有更高的選擇比、更高的刻蝕速率以及更好的均勻性。此外,在化學氣相沉積、腔室清潔、離子注入、濺射、表面處理等工藝中,等離子體也有著廣泛的應用。
            當等離子體中的正離子處于激發態時,其會往外自發輻射光子,稱為發射光譜。通過對發射光譜的分析,可以得到等離子體的溫度、密度、元素成分等信息,進而監控半導體工藝。例如,工藝工程師可以通過對特定波長譜線強度的實時監測來判斷刻蝕是否達到終點。
            
      等離子體監控
      復享ZURO系列光譜儀
      隨著制程工藝的不斷提高和化合物半導體的興起,人們對發射光譜的探測與分析提出了更嚴苛的要求。在此背景下,復享光學通過與頭部客戶深度打磨和產線驗證,為集成電路行業提供了面向6、8、12寸制程刻蝕發射光譜的解決方案。硬件上,推出ZURO系列光譜儀,具備高光學分辨率(最小可達0.1 nm)、高動態范圍(最大可達40000:1)、高采樣頻率(最高可達1000 Hz)、以及高信噪比等特性,能夠有效提取復雜刻蝕場景下的弱信號;軟件上,通過與頭部Fab客戶合作,研制了用于終點檢測的IdeaEPD工業軟件,具備自定義終點判斷算法、高速采樣監控、歷史數據再查詢、多達10腔室聯合監測等功能。
      等離子體監控
      現場場景和各類被處理的微納器件
      復享提供的ZURO系列光譜儀配備ideaEPD行業應用軟件,匹配行業標準,能滿足針對金屬刻蝕、單多晶硅刻蝕、化合物刻蝕及高速清洗等應用場景需求,具有信號精準、性能長期穩定、Fab生產環境適應等特點。復享光學已完成ZURO系列產品的國產驗證與量產準備,能為客戶進行差異化的定制開發,解決頭部客戶的關鍵光學零部件斷供風險。目前,復享的產品已經獲得多家半導體頭部客戶的驗證、生產導入及小批量訂單。公司正為下一代的發射光譜儀進行開發、驗證和擴產。


       

       




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